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新闻详情
解决江苏中能硅业多晶硅生产洗涤塔液位问题KRE65
日期:2025-05-22 18:52
浏览次数:1953
摘要:
解决江苏中能硅业多晶硅生产洗涤塔液位问题KRE65
多晶硅洗涤塔用液位传感器静电容液位KRE65
多晶硅洗涤塔,内部是高压2.5MPA 高温:200-250度,所测介质为:四氯化硅(SiCl4)(80%),三氯氢硅(SIHCL3)(20%),二氯二氢硅(SIH2CL2)(PPM)硅粉 氢气同时有三氯氢硅(SIHCL3)(20%),二氯二氢硅(SIH2CL2)(PPM)硅粉氢气等混合气体从液面底涌出.测量四氯化硅界面,同时会有少量的沉淀黏附.所以还要防爆。
要想测出以上混合物的液位,我们用的是日本能研NOHKEN的分体防爆式静电容液位开关KRE65-4F的,压力可以达到2.5mpa 温度200度。像这种混合物,也只能用NOHKEN的静电容来解决。控制器KRE6000,到探头的距离可以做到200m,所以控制器可以放在非防爆区,如果一定要放到防爆区,可以加一个隔爆箱。
我们已经为德山化工,和江苏中能硅业解决这个问题,如果同行有需要的可以随时联系:谢谢。倪东来:021-54156619 15901905409
解决江苏中能硅业多晶硅生产洗涤塔液位问题KRE65
多晶硅洗涤塔用液位传感器静电容液位KRE65
多晶硅洗涤塔,内部是高压2.5MPA 高温:200-250度,所测介质为:四氯化硅(SiCl4)(80%),三氯氢硅(SIHCL3)(20%),二氯二氢硅(SIH2CL2)(PPM)硅粉 氢气同时有三氯氢硅(SIHCL3)(20%),二氯二氢硅(SIH2CL2)(PPM)硅粉氢气等混合气体从液面底涌出.测量四氯化硅界面,同时会有少量的沉淀黏附.所以还要防爆。
要想测出以上混合物的液位,我们用的是日本能研NOHKEN的分体防爆式静电容液位开关KRE65-4F的,压力可以达到2.5mpa 温度200度。像这种混合物,也只能用NOHKEN的静电容来解决。控制器KRE6000,到探头的距离可以做到200m,所以控制器可以放在非防爆区,如果一定要放到防爆区,可以加一个隔爆箱。
我们已经为德山化工,和江苏中能硅业解决这个问题,如果同行有需要的可以随时联系:谢谢。倪东来:021-54156619 15901905409
解决江苏中能硅业多晶硅生产洗涤塔液位问题KRE65